光學(xué)零件超聲波清洗的運(yùn)用
超聲波清洗(ultrasonic cleaning)是利用超聲波在液體中的空化作用、加速度作用及直進(jìn)流作用對(duì)液體和污物直接、間接的作用,使污物層被分散、乳化、剝離而達(dá)到清洗目的。目前所用的超聲波清洗機(jī)中,空化作用和直進(jìn)流作用應(yīng)用得更多。
超聲波用于清洗始于20世紀(jì)30年代,隨著技術(shù)的日漸成熟.超聲波清洗被廣泛應(yīng)用于航空航天工業(yè)清洗發(fā)動(dòng)機(jī)、液壓及過濾系統(tǒng)、電子行業(yè)清洗硅片、電路板和電器元件的制作中等。90年代初,超聲波清洗開始逐漸運(yùn)用到光學(xué)零件清洗,最初光學(xué)零件超聲波清洗技術(shù)不成熟,只是應(yīng)用于工序間的清洗和光學(xué)零件拋光完工件的清洗.后來才逐漸發(fā)展到光學(xué)零件鍍前的超凈清洗。超聲波清洗工藝作為光學(xué)零件加工過程中的重要一環(huán),它逐漸代替了傳統(tǒng)的手工清洗及精擦操作,使清洗及精擦的效率成倍或十多倍的提高,為光學(xué)工業(yè)生產(chǎn)輔助工序?qū)崿F(xiàn)機(jī)械化、自動(dòng)化提供了條件。對(duì)于光學(xué)鍍膜元件來說。玻璃基底的清潔程度是影響鍍膜產(chǎn)品質(zhì)量好壞的關(guān)鍵因素之一。保障光學(xué)零件表面鍍膜前的潔凈度,可以降低薄膜內(nèi)的雜質(zhì)污染物,鍍膜前光學(xué)零件的超聲波清洗至關(guān)重要。光學(xué)零件進(jìn)入鍍膜室前,不管鍍膜外觀要求如何,均應(yīng)進(jìn)行認(rèn)真的鍍前處理(即超聲清洗處理),超聲波清洗時(shí)要根據(jù)玻璃材質(zhì)、尺寸大小和厚薄等因素采取不同的工藝,從而達(dá)到去油、去污和脫水的目的,這是提高膜層牢固度的重要措施之一。對(duì)于光學(xué)鍍膜零件,玻璃基底的清潔程度是影響鍍膜產(chǎn)品表面質(zhì)量的關(guān)鍵因素之一,保障光學(xué)零件表面鍍膜前的潔凈度,可以降低薄膜內(nèi)的雜質(zhì)污染物,因此鍍膜前光學(xué)零件的超聲波清洗至關(guān)重要。
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